光學鍍膜機由真空系統軟件，蒸鍍系統軟件，制冷系統和電氣控制系統構成，在其中真空系統軟件由真空罐和排氣系統構成。真空罐是鍍膜機的行為主體，鍍膜全過程便是在真空罐里進行的，根據聯接閥將真空罐和排氣系統相接。以便避免氣體分子結構對磁控濺射正離子的危害，提升膜層的品質，在作業時，務必將光學元件和離子源放置真空自然環境中。排氣系統關鍵由真空泵，羅茨真空泵和真空泵構成，承擔排出來真空罐里的汽體，使罐里產生真空自然環境。蒸鍍系統軟件關鍵指涂膜設備一部分，鍍膜機器的涂膜設備有很多種多樣，如電阻絲加熱，射線管揮發，磁控濺射，射頻濺射，等離子噴涂等。

光學鍍膜機根據真空磁控濺射的方法在光學元件上涂鍍塑料薄膜，由此更改元器件對入射角線的透射率和透過率。與此同時，以便最 大限度地降低元器件表層的折射損害，提升顯像品質，通常涂鍍多層塑料薄膜。光學元件鍍膜后，光在多層膜層的表層開展數次折射和散射，產生多光線干預，根據操縱膜層的薄厚和折光率，可以獲得不一樣的抗壓強度分布。

運用這一基本原理可以生產制造光的偏振反光膜，彩色分光膜，冷光膜和干預濾光片等，以達到更為錯綜復雜的要求。

光學鍍膜機也是有根據電子束蒸發方法，在光學元件上鍍膜，由此實現要想要的透射率和透過率規定，光學鍍膜機選用哪些加工工藝，主要是看鍍制的產品工件需要什么實際效果，鍍制哪些膜層，隨后選用哪些鍍膜加工工藝。